依据阳极层线性封闭漂移理论，气体在离子中的阴阳极之间通过，其阳极的正电压与加在内外阴部间的强磁场相互作用，产生等离子体，来自于等离子体中的离子受阳极电场的驱动，由离子源中产生喷出的离子束流。
2、用途
可作为基片表面的清洁离子清洗源。
可在柔性基片上直接镀DLC和光学膜、氧化物、氮化物等作为磁控溅射过程中的离子辅助沉积。
3、特性
低气压、低电压、高束流。阳极膜离子源产生的低能量、大束流的离子束可以有效去除基片表面的有机污染物和氧化层，增加薄膜的附着力，同时避免对基片轰击时造成损伤(如平板显示器镀膜、柔性基材镀膜)。
无灯丝、栅极及中和栅、可长时间稳定运行和生产。非常高的平均无故障时间和极地的维护成本。由于阳极膜离子源无需灯丝，空心阴极等电子中和器而且水冷完全，所有其对镀膜环境的温度改变很小。这个特性对温度敏感基片的镀膜非常有利。同样道理，没有电子中和器使其可以长时间免维护工作。
可适应各种反应气体和惰性气体。阳极膜离子源的机构和材料组成使得其完全适应绝大部分反应气体，如氮气、氧气和甲烷等。
离子源长度可根据用户需要制造。
有效尺寸 | （根据具体型号而定） |
空载电压 | >1500V |
工作电流 | 0～5A连续可调 |
离子能量 | 50-800eV |
工作压强 | 1×10-1~5×10-1Pa |
气路流量 | 0~100Sccm |
冷却水管 | Φ8×1 |
冷却水阻抗 | 50KΩ/M |
控制方式 | Local/Remote |
适用范围 | 等离子体清洗及辅助镀膜 |
