一、产品应用
1、适用：大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。
2、产品特点/用途：
设备一体化设计，占地面积小，性能稳定，使用维护成本低；
设备配备2组蒸发源，兼容有机蒸发与无机蒸发，多元共蒸获得复合膜/分蒸获得多层膜，功能强大，性能稳定；
设备配备辉光前处理装置，膜层结合力好；
适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、有机膜，也可用于生产线前期工艺试验等。
二、设备参数
镀膜方式 | 电阻蒸发 |
真空腔室结构 | D型结构 |
真空腔室尺寸 | Φ500×H600mm |
加热温度 | 室温～250℃ |
旋转基片台 | Φ250mm |
蒸发源 | 2组金属蒸发源 |
控制方式 | PLC+触摸屏控制 |
占地面积 | 主机L1500×W1000×H1500mm |
总功率 | ≥10KW |
